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증착온도와 RF Power가 TiCN박막의 플라즈마 화학증착에 미치는 영향 (The Effects of Deposition Temperature and RF Power on the Plasma Assisted Chemical Vapor Deposition of TiCN Films)
김시범|김광호|김상호|천성순 ; 한국세라믹학회, 1989
[Vol:26, no.3 1989]
SCOPUS,KCI등재
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급속 건식 열산화 방법에 의한 초박막 SiO<sub>2</sub>의 성장과 특성 (Growth and Properties of Ultra-thin SiO<sub>2</sub> Films by Rapid Thermal Dry Oxidation Technique)
정상현|김광호|김용성|이수홍 ; 한국전기전자재료학회, 2004
[Vol:17, no.1 2004]
KCI등재
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이온빔 스퍼터링에 의한 ATO 박막의 실온 증착 및 열처리에 따른 특성변화 (Room Temperature Deposition and Heat Treatment Behavior of ATO Thin Films by Ion Beam Sputtering)
구창영|김경중|김광호|이희영 ; 한국세라믹학회, 2000
[Vol:37, no.11 2000]
SCOPUS,KCI등재
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고정밀저항용 크롬산화박막의 특성 (Characteristics of CrOx Thin-films for High Precision Resistors)
서정환|노상수|이응안|김광호|Seo, Jeong-Hwan|Noh, Sang-Soo|Lee, Eung-Ahn|Kim, Kwang-ho ; 한국전기전자재료학회, 2005
[Vol:18, no.3 2005]
KCI등재
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스퍼터링법으로 제조된 Pd-doped $SnO_2$ 박막의 수소가스 감도 특성 (The Hydrogen Gas Sensing Characteristics of the Pd-doped $SnO_2$ Thin Films Prepared by Sputtering)
차경현|김영우|박희찬|김광호 ; 한국세라믹학회, 1993
[Vol:30, no.9 1993]
SCOPUS,KCI등재
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플라즈마 ALD법에 의해 제조된 마이크로볼로미터용 바나듐 산화막의 제작 및 특성 (Fabrication and Properties of Vanadium Oxide Thin Films for Microbolometer by using Plasma Atomic Layer Deposition Method)
윤형선|정순원|정상현|김광호|최창억|유병곤|Yun, Hyeong-Seon|Jung, Soon-Won|Jeong, Sang-Hyun|Kim, Kwang-Ho|Choi, Chang-Auck|Yu, Byoung-Gon ; 한국전기전자재료학회, 2008
[Vol:21, no.2 2008]
KCI등재
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산화알루미늄 박막의 두께 및 열처리 온도에 따른 Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/GaN MIS 구조의 전기적 특성 변화 (Change in Electrical Properties of Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>/GaN MIS Structures according to the Thickness of Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> Thin Film and Annealing Temperature)
곽노원|이우석|김가람|김현준|김광호|Kwak, No-Won|Lee, Woo-Seok|Kim, Ka-Lam|Kim, Hyun-Jun|Kim, Kwang-Ho ; 한국전기전자재료학회, 2009
[Vol:22, no.6 2009]
KCI등재
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